氯化氢的纯度直接决定了氯化氢的应用领域。高纯度氯化氢要求纯度大于99.999%，总杂质含量小于5ppm，可以应用于电子工业中半导体材料生产企业在单晶硅片气相抛光、外延基座腐蚀和硬质合金镀膜工艺中使用。
要保证纯度合格，必须严格控制氯氢处理各控制点保证H2、CL2含水指标达到要求减少对合成炉灯头是否腐蚀。2、H2、CL2压力的影响：为了保证生产安全平稳运行，我们工艺要求进入合成炉的H2压力不低于80Kpa但不大于85KPa。主要是保证高的H2压力可以给操作工争取在H2急剧下降的情况下争取调节的时间。而如果H2压力 高于85Kpa时，H2就会在氢气分配台自动排空，造成浪费。CL2压 力运行中我们一般保持在140Kpa左右平稳运行，过低HCL纯度达不到要求太高就会自动走事故氯系统。所以保证HCL气体纯度高且 安全稳定的另外一个非常主要的前提是H2、CL2压力平稳无太大的 波动。3、CL2与H2配比的影响：经处理后合格的CL2与H2经过流量计、 调节阀与切断阀在合成 炉石英灯头处进行燃烧生成HCL气体。按照理论CL2和H2完全燃 烧是按照摩尔质量1:1完全发生反应，而PVC实际生产要求HCL气 体中不能含有游离氯 （因为微量的游离氯能与乙炔气迅速的发生反应 生成具有爆炸性的氯乙炔气体引发事故） ，所以在实际生产中我们要求H2过量于CL2 0.05--0.1摩尔体积，保证产品气HCL中不含有游离氯。在实际操作过程中，需严格要求DCS操作工准确熟练地及时根据H2、CL2的压力来调节进合成炉的两种气体配比，确保生产安全的前提下保证HCL纯度。4、其它原因影响：除了上述提出的主要影响因素外，影响HCL纯度的其它因素还有仪表流量计自控阀的准确度和其它工序生产波动等诸多原因。
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